<http://tbx2rdf.lider-project.eu/data/iate/tecnologia+de+semicondutor+a+óxido-metal-pt> <http://tbx2rdf.lider-project.eu/tbx#reliabilityCode> "3"^^<http://www.w3.org/2001/XMLSchema#integer> .
<http://tbx2rdf.lider-project.eu/data/iate/tecnologia+de+semicondutor+a+óxido-metal-pt> <http://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#type> <http://www.w3.org/ns/lemon/ontolex#LexicalEntry> .
<http://tbx2rdf.lider-project.eu/data/iate/tecnologia+de+semicondutor+a+óxido-metal-pt> <http://www.w3.org/ns/lemon/ontolex#language> <http://www.lexvo.org/page/iso639-3/por> .
<http://tbx2rdf.lider-project.eu/data/iate/tecnologia+de+semicondutor+a+óxido-metal-pt> <http://www.w3.org/ns/lemon/ontolex#sense> <http://tbx2rdf.lider-project.eu/data/iate/tecnologia+de+semicondutor+a+óxido-metal-pt#Sense> .
<http://tbx2rdf.lider-project.eu/data/iate/tecnologia+de+semicondutor+a+óxido-metal-pt> <http://www.w3.org/ns/lemon/ontolex#canonicalForm> <http://tbx2rdf.lider-project.eu/data/iate/tecnologia+de+semicondutor+a+óxido-metal-pt#CanonicalForm> .
<http://tbx2rdf.lider-project.eu/data/iate/tecnologia+de+semicondutor+a+óxido-metal-pt> <http://www.lexinfo.net/ontology/2.0/lexinfo#termType> <http://www.lexinfo.net/ontology/2.0/lexinfo#fullForm> .
<http://tbx2rdf.lider-project.eu/data/iate/tecnologia+de+semicondutor+a+óxido-metal-pt#CanonicalForm> <http://www.w3.org/ns/lemon/ontolex#writtenRep> "tecnologia de semicondutor a óxido-metal"@pt .
<http://tbx2rdf.lider-project.eu/data/iate/en> <http://www.w3.org/ns/lemon/ontolex#entry> <http://tbx2rdf.lider-project.eu/data/iate/tecnologia+de+semicondutor+a+óxido-metal-pt> .
<http://tbx2rdf.lider-project.eu/data/iate/tecnologia+de+semicondutor+a+óxido-metal-pt#Sense> <http://www.w3.org/ns/lemon/ontolex#reference> <http://tbx2rdf.lider-project.eu/data/iate/IATE-1756211> .